레이저로 생성 된 전면의 메커니즘에 대해 먼저 자극 방출을 설명합니다. 광학 방사선에는 세 가지 종류의 방사선이 있습니다.
자발적 방출이라고하는 고 에너지 상태 전이에서 입자의 저에너지 상태로 전달됩니다.
두 번째는 자극 방출이라고하는 낮은 에너지 전이에 의해 여기 될 때 외부 광에서 입자의 고 에너지 상태에 있습니다.
3 개는 저에너지 상태 입자가 빛 에너지를 외부로 흡수하고 고 에너지 자극 흡수 전이 호출에 있습니다.
자발 방사선은 고 에너지 상태에서 저에너지 상태로 입자의 이동으로 이동하면서 위상의 빛을 발산하고 편광 상태, 발사 방향도 다를 수 있지만 스트레스 방사선에 의해 다른 위치에 있습니다. 고 에너지 입자의 외부 광자 상태에서 영감을받은 Xia에서 저에너지 상태 점프로 이동, 주파수 및 위상, 그리고 편광 상태, 측면 및 외부 광자가 빛과 완전히 동일합니다. 레이저에서 방사선의 자극 방출은 레이저 주파수, 위상, 편광 등을 정확히 동일하게 방출합니다. 모든 여기 광 시스템
레이저 다이오드의 스케치 맵
레이저 다이오드의 스케치 맵
그것은 방출을 자극하고 흡수를 자극하고, 방출을 자극하는 이점만이 외부 광학 레이저를 발행 할 수 있습니다. 일반 빛이 자극 된 흡수 가장자리 만 입자 평형이 깨지고 에너지 입자 수가 낮은 에너지 상태 입자 수 (예 : 이온 반전)보다 크면 레이저를 만듭니다.